Solución de desinfección de bajo mantenimiento, efectiva al costo

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Productos metalúrgicos

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Equipo: LVN–2000 SISTEMA DE INYECCIÓN QUÍMICA LÍQUIDA

Antecedentes: El cliente había estado usando bombas de velocidad variable para dosificar hipoclorito dentro de agua de acarreo que alimentaba una cámara de contacto. A modo de mantener el residual de Cl2 en el punto de ajuste especificado, durante los períodos de bajo flujo, las bombas tenían una corrida tan lenta que causaba el calentamiento de los motores CD. En ocasiones, la demanda del Cl2 tenía cambios tan drásticos que requerían la entrada de una segunda bomba, por la duración de los picos de demanda, y después sacarla al caer la demanda.

Durante la temporada del estiaje, el desprendimiento de gas del hipoclorito planteaba un buen problema. Estos desprendimientos provocaban el congestionamiento de las bombas por las bolsas de gas que requería de la atención de los operadores para purgar el sistema. Cuando la bomba debería remontar, no bombeaba tan eficientemente, causando sólo que corriera a una mayor velocidad. Se requería también del alto mantenimiento del remplazo de diafragmas y cabezales de bombeo.

En un momento dado, se instalaron líneas de menor diámetro hacia la bombas de hipoclorito, para tratar de aliviar el problema de los desprendimientos de gas, sin embargo, esta solución falló debido a las largas líneas requeridas para llegar hasta las áreas de tanque de almacenamiento y bombas.

Acción tomada: Se instalaron tres unidades LVN-2000 de inyección química líquida, totalmente automatizadas con controles PCU con acción de interfase.

Resultados: Con las unidades LVN-2000 ya instaladas, se utiliza un efluente de agua filtrada para operar un eductor que extrae la solución de hipoclorito, desde el tanque de almacenamiento y a través de la unidad LVN-2000.

Como beneficio adicional, el flujo del LVN-2000 es suave y contínuo, eliminando así bolsas de aire y entrada de reactivo en “oleadas”, al tiempo que aporta una lectura directa del flujo. Facilita un mejor mezclado del hipoclorito con el flujo del agua de acarreo. Una vez que el hipoclorito es mezclado en el eductor con el agua de acarreo, llega por tubería hasta el difusor de la cámara de contacto.

Después que la solución se mezcla con el efluente de la planta, una bomba de muestreo alimenta al analizador de cloro residual, para proveer la retroalimentación medida de los niveles de cloro. El nivel del Cl2 residual deseado es la señal de entrada del controlador PCU. El punto de ajuste del PCU compara la señal medida, del analizador para ajustar automáticamente la capacidad del LVN-2000 y mantener el residual correcto de Cl2.

El cliente ha encontrado que a diferencia de las bombas, el mantenimiento del sistema líquido V-Notch ha sido prácticamente despreciable y ha reducido los trabajos de las lavadas mensuales del dosificador y de las líneas de del difusor, así como la limpieza de filtros para prevenir los congestionamientos de los orificios del eductor.

A pesar de las variaciones del flujo, el LVN-2000 aporta una operación suave y un residual estable de cloro dentro del marco del lapso de 6.5 horas que enseña la gráfica.

Sistema SCADA del cuarto del control de Operaciones que muestra el estatus de los procesos de efluente final /desinfección del efluente.